
टीजीव्ही म्हणजे काय?
टीजीव्ही, (काचेच्या माध्यमातून), काचेच्या सब्सट्रेटवर छिद्रे निर्माण करण्याची तंत्रज्ञान. सोप्या भाषेत सांगायचे तर, TGV ही एक उंच इमारत आहे जी काचेच्या मजल्यावर एकात्मिक सर्किट तयार करण्यासाठी काचेला छिद्र करते, भरते आणि वर आणि खाली जोडते. हे तंत्रज्ञान पुढील पिढीच्या 3D पॅकेजिंगसाठी एक प्रमुख तंत्रज्ञान मानले जाते.

टीजीव्हीची वैशिष्ट्ये काय आहेत?
१. रचना: टीजीव्ही हे काचेच्या सब्सट्रेटवर बनवलेले उभ्या भेदक वाहक छिद्र आहे. छिद्रांच्या भिंतीवर प्रवाहकीय धातूचा थर जमा करून, विद्युत सिग्नलचे वरचे आणि खालचे थर एकमेकांशी जोडलेले असतात.
२. उत्पादन प्रक्रिया: टीजीव्ही उत्पादनामध्ये सब्सट्रेट प्रीट्रीटमेंट, होल मेकिंग, मेटल लेयर डिपॉझिशन, होल फिलिंग आणि फ्लॅटनिंग स्टेप्स समाविष्ट आहेत. केमिकल एचिंग, लेसर ड्रिलिंग, इलेक्ट्रोप्लेटिंग इत्यादी सामान्य उत्पादन पद्धती आहेत.
३. अनुप्रयोगाचे फायदे: पारंपारिक धातूच्या छिद्रातून जाण्याच्या तुलनेत, TGV मध्ये लहान आकार, जास्त वायरिंग घनता, चांगले उष्णता नष्ट करण्याची कार्यक्षमता इत्यादी फायदे आहेत. मायक्रोइलेक्ट्रॉनिक्स, ऑप्टोइलेक्ट्रॉनिक्स, MEMS आणि उच्च-घनतेच्या इंटरकनेक्शनच्या इतर क्षेत्रांमध्ये मोठ्या प्रमाणावर वापरले जाते.
४. विकासाचा कल: इलेक्ट्रॉनिक उत्पादनांच्या लघुकरण आणि उच्च एकात्मतेच्या दिशेने विकासासह, TGV तंत्रज्ञानाकडे अधिकाधिक लक्ष आणि अनुप्रयोग मिळत आहे. भविष्यात, त्याची उत्पादन प्रक्रिया ऑप्टिमाइझ केली जाईल आणि त्याचा आकार आणि कामगिरी सुधारत राहील.
टीजीव्ही प्रक्रिया काय आहे:

१. काचेचा थर तयार करणे (अ): सुरुवातीला काचेचा थर तयार करा जेणेकरून त्याचा पृष्ठभाग गुळगुळीत आणि स्वच्छ राहील.
२. काचेचे ड्रिलिंग (ब): काचेच्या सब्सट्रेटमध्ये पेनिट्रेशन होल तयार करण्यासाठी लेसरचा वापर केला जातो. छिद्राचा आकार सामान्यतः शंकूच्या आकाराचा असतो आणि एका बाजूला लेसर ट्रीटमेंट केल्यानंतर, ते उलटे केले जाते आणि दुसऱ्या बाजूला प्रक्रिया केली जाते.
३. छिद्र भिंतीचे धातूकरण (c): छिद्र भिंतीवर धातूकरण केले जाते, सामान्यतः PVD, CVD आणि इतर प्रक्रियांद्वारे छिद्र भिंतीवर एक प्रवाहकीय धातूचा बीज थर तयार केला जातो, जसे की Ti/Cu, Cr/Cu, इ.
४. लिथोग्राफी (d): काचेच्या सब्सट्रेटच्या पृष्ठभागावर फोटोरेझिस्ट आणि फोटोपॅटर्नचा लेप असतो. ज्या भागांना प्लेटिंगची आवश्यकता नाही ते उघडे करा, जेणेकरून फक्त ज्या भागांना प्लेटिंगची आवश्यकता आहे ते उघडे पडतील.
५. छिद्र भरणे (e): संपूर्ण प्रवाहकीय मार्ग तयार करण्यासाठी छिद्रांमधून काच भरण्यासाठी तांब्याचे इलेक्ट्रोप्लेटिंग. सामान्यतः छिद्र पूर्णपणे भरलेले असणे आवश्यक असते ज्यामध्ये कोणतेही छिद्र नसतात. लक्षात ठेवा की आकृतीमधील Cu पूर्णपणे भरलेले नाही.
६. सब्सट्रेटचा सपाट पृष्ठभाग (f): काही TGV प्रक्रिया भरलेल्या काचेच्या सब्सट्रेटच्या पृष्ठभागावर सपाट करतील जेणेकरून सब्सट्रेटची पृष्ठभाग गुळगुळीत राहील, जी पुढील प्रक्रियेच्या चरणांसाठी अनुकूल असेल.
७. संरक्षक थर आणि टर्मिनल कनेक्शन (g): काचेच्या सब्सट्रेटच्या पृष्ठभागावर एक संरक्षक थर (जसे की पॉलिमाइड) तयार होतो.
थोडक्यात, TGV प्रक्रियेतील प्रत्येक टप्पा महत्त्वाचा असतो आणि त्यासाठी अचूक नियंत्रण आणि ऑप्टिमायझेशन आवश्यक असते. आवश्यक असल्यास आम्ही सध्या TGV ग्लास थ्रू होल तंत्रज्ञान देऊ करतो. कृपया आमच्याशी संपर्क साधा!
(वरील माहिती इंटरनेटवरून घेतली आहे, सेन्सॉरिंग)
पोस्ट वेळ: जून-२५-२०२४