नीलम क्रिस्टल ग्रोथ फर्नेस केवाय किरोपौलोस नीलम वेफर आणि ऑप्टिकल विंडो उत्पादनासाठी पद्धत
कार्य तत्व
KY पद्धतीच्या मुख्य तत्वात २०५०°C तापमानावर टंगस्टन/मोलिब्डेनम क्रूसिबलमध्ये उच्च-शुद्धता असलेले Al₂O₃ कच्चे माल वितळवणे समाविष्ट आहे. बियाण्याचे स्फटिक वितळवण्याच्या ठिकाणी खाली आणले जाते, त्यानंतर नियंत्रित विथड्रॉवल (०.५-१० मिमी/ता) आणि रोटेशन (०.५-२० आरपीएम) केले जाते जेणेकरून α-Al₂O₃ सिंगल क्रिस्टल्सची दिशात्मक वाढ साध्य होईल. प्रमुख वैशिष्ट्यांमध्ये हे समाविष्ट आहे:
• मोठ्या आकाराचे क्रिस्टल्स (जास्तीत जास्त Φ४०० मिमी × ५०० मिमी)
• कमी-ताण ऑप्टिकल-ग्रेड नीलम (वेव्हफ्रंट विरूपण <λ/8 @ 633 एनएम)
• डोप केलेले क्रिस्टल्स (उदा., स्टार नीलमणी साठी Ti³⁰ डोपिंग)
कोर सिस्टम घटक
१. उच्च-तापमान वितळण्याची प्रणाली
• टंगस्टन-मोलिब्डेनम कंपोझिट क्रूसिबल (कमाल तापमान २३००°C)
• मल्टी-झोन ग्रेफाइट हीटर (±०.५°C तापमान नियंत्रण)
२. क्रिस्टल ग्रोथ सिस्टम
• सर्वो-चालित पुलिंग यंत्रणा (±०.०१ मिमी अचूकता)
• चुंबकीय द्रवपदार्थ रोटरी सील (०-३० आरपीएम स्टेपलेस स्पीड रेग्युलेशन)
३. थर्मल फील्ड कंट्रोल
• ५-झोन स्वतंत्र तापमान नियंत्रण (१८००–२२००°C)
• समायोज्य उष्णता ढाल (±२°C/सेमी ग्रेडियंट)
• व्हॅक्यूम आणि वातावरण प्रणाली
• १०⁻⁴ पा उच्च व्हॅक्यूम
• Ar/N₂/H₂ मिश्रित वायू नियंत्रण
४. बुद्धिमान देखरेख
• सीसीडी रिअल-टाइम क्रिस्टल व्यास देखरेख
• मल्टी-स्पेक्ट्रल मेल्ट लेव्हल डिटेक्शन
केवाय विरुद्ध सीझेड पद्धत तुलना
| पॅरामीटर | केवाय पद्धत | सीझेड पद्धत |
| कमाल क्रिस्टल आकार | Φ४०० मिमी | Φ२०० मिमी |
| वाढीचा दर | ५-१५ मिमी/ताशी | २०-५० मिमी/तास |
| दोष घनता | <१००/सेमी² | ५००-१०००/सेमी² |
| ऊर्जेचा वापर | ८०-१२० किलोवॅट/किलो | ५०-८० किलोवॅट प्रतिकिलो |
| ठराविक अनुप्रयोग | ऑप्टिकल खिडक्या/मोठे वेफर्स | एलईडी सब्सट्रेट्स/दागिने |
प्रमुख अनुप्रयोग
१. ऑप्टोइलेक्ट्रॉनिक विंडोज
• मिलिटरी आयआर घुमट (ट्रान्समिटन्स >८५%@३–५ μm)
• यूव्ही लेसर खिडक्या (२०० वॅट/सेमी² पॉवर घनतेचा सामना करू शकतात)
२. सेमीकंडक्टर सबस्ट्रेट्स
• GaN एपिटॅक्सियल वेफर्स (२-८ इंच, TTV <१० μm)
• SOI सब्सट्रेट्स (पृष्ठभागाची खडबडीतपणा <0.2 nm)
३. ग्राहक इलेक्ट्रॉनिक्स
• स्मार्टफोन कॅमेरा कव्हर ग्लास (मोहस हार्डनेस ९)
• स्मार्टवॉच डिस्प्ले (१०× स्क्रॅच रेझिस्टन्स सुधारणा)
४. विशेष साहित्य
• उच्च-शुद्धता IR ऑप्टिक्स (शोषण गुणांक <10⁻³ cm⁻¹)
• अणुभट्टी निरीक्षण खिडक्या (रेडिएशन सहनशीलता: १०¹⁶ n/सेमी²)
कायरोपौलोस (केवाय) नीलम क्रिस्टल ग्रोथ उपकरणाचे फायदे
कायरोपौलोस (केवाय) पद्धतीवर आधारित नीलमणी क्रिस्टल ग्रोथ उपकरण अतुलनीय तांत्रिक फायदे देते, जे औद्योगिक स्तरावरील उत्पादनासाठी एक अत्याधुनिक उपाय म्हणून स्थान देते. प्रमुख फायद्यांमध्ये हे समाविष्ट आहे:
१. मोठ्या व्यासाची क्षमता: १२ इंच (३०० मिमी) व्यासापर्यंत नीलमणी क्रिस्टल्स वाढविण्यास सक्षम, ज्यामुळे GaN एपिटॅक्सी आणि मिलिटरी-ग्रेड विंडो सारख्या प्रगत अनुप्रयोगांसाठी वेफर्स आणि ऑप्टिकल घटकांचे उच्च-उत्पन्न उत्पादन शक्य होते.
२. अल्ट्रा-लो डिफेक्ट डेन्सिटी: ऑप्टिमाइझ्ड थर्मल फील्ड डिझाइन आणि अचूक तापमान ग्रेडियंट नियंत्रणाद्वारे विस्थापन घनता <१००/सेमी² साध्य करते, ऑप्टोइलेक्ट्रॉनिक उपकरणांसाठी उत्कृष्ट क्रिस्टल अखंडता सुनिश्चित करते.
३. उच्च-गुणवत्तेची ऑप्टिकल कामगिरी: दृश्यमान ते इन्फ्रारेड स्पेक्ट्रा (४००–५५०० एनएम) वर ८५% ट्रान्समिटन्स प्रदान करते, जे यूव्ही लेसर विंडो आणि इन्फ्रारेड ऑप्टिक्ससाठी महत्वाचे आहे.
४. प्रगत ऑटोमेशन: सर्वो-चालित पुलिंग यंत्रणा (±०.०१ मिमी अचूकता) आणि चुंबकीय द्रव रोटरी सील (०-३० आरपीएम स्टेपलेस नियंत्रण) वैशिष्ट्ये, मानवी हस्तक्षेप कमीत कमी करते आणि सुसंगतता वाढवते.
५. लवचिक डोपिंग पर्याय: ऑप्टोइलेक्ट्रॉनिक्स आणि दागिन्यांमधील विशिष्ट बाजारपेठांना सेवा देणारे, Cr³⁰ (रुबीसाठी) आणि Ti³⁰ (स्टार नीलमणीसाठी) सारख्या डोपेंट्ससह कस्टमायझेशनला समर्थन देते.
६. ऊर्जा कार्यक्षमता: ऑप्टिमाइज्ड थर्मल इन्सुलेशन (टंगस्टन-मोलिब्डेनम क्रूसिबल) पर्यायी वाढीच्या पद्धतींशी स्पर्धा करून, ऊर्जेचा वापर ८०-१२० kWh/kg पर्यंत कमी करते.
७. स्केलेबल उत्पादन: जलद सायकल वेळेसह (३०-४० किलो क्रिस्टल्ससाठी ८-१० दिवस) मासिक ५,०००+ वेफर्सचे उत्पादन साध्य करते, जे २०० हून अधिक जागतिक प्रतिष्ठानांनी प्रमाणित केले आहे.
८. लष्करी दर्जाचा टिकाऊपणा: यामध्ये रेडिएशन-प्रतिरोधक डिझाइन आणि उष्णता-प्रतिरोधक साहित्य (१०¹⁶ n/cm² सहन करू शकते) समाविष्ट आहे, जे अवकाश आणि आण्विक अनुप्रयोगांसाठी आवश्यक आहे.
या नवकल्पनांमुळे केवाय पद्धतीला उच्च-कार्यक्षमता असलेल्या नीलमणी क्रिस्टल्सच्या निर्मितीसाठी सुवर्ण मानक म्हणून बळकटी मिळते, ज्यामुळे 5G कम्युनिकेशन्स, क्वांटम संगणन आणि संरक्षण तंत्रज्ञानात प्रगती होते.
XKH सेवा
XKH नीलम क्रिस्टल ग्रोथ सिस्टमसाठी व्यापक टर्नकी सोल्यूशन्स प्रदान करते, ज्यामध्ये इंस्टॉलेशन, प्रक्रिया ऑप्टिमायझेशन आणि कर्मचारी प्रशिक्षण यांचा समावेश आहे जेणेकरून निर्बाध ऑपरेशनल इंटिग्रेशन सुनिश्चित होईल. आम्ही विविध औद्योगिक गरजांनुसार तयार केलेल्या पूर्व-प्रमाणित ग्रोथ रेसिपी (50+) वितरित करतो, ज्यामुळे क्लायंटसाठी संशोधन आणि विकास वेळ लक्षणीयरीत्या कमी होतो. विशेष अनुप्रयोगांसाठी, कस्टम डेव्हलपमेंट सेवा कॅव्हिटी कस्टमायझेशन (Φ200–400 मिमी) आणि प्रगत डोपिंग सिस्टम (Cr/Ti/Ni) सक्षम करतात, उच्च-कार्यक्षमता ऑप्टिकल घटक आणि रेडिएशन-प्रतिरोधक सामग्रीला समर्थन देतात.
मूल्यवर्धित सेवांमध्ये स्लाइसिंग, ग्राइंडिंग आणि पॉलिशिंग सारख्या वाढीनंतरच्या प्रक्रियांचा समावेश आहे, ज्याला वेफर्स, ट्यूब्स आणि जेमस्टोन ब्लँक्स सारख्या नीलमणी उत्पादनांच्या संपूर्ण श्रेणीने पूरक केले आहे. या ऑफर ग्राहक इलेक्ट्रॉनिक्सपासून एरोस्पेसपर्यंतच्या क्षेत्रांना सेवा देतात. आमचे तांत्रिक समर्थन २४ महिन्यांची वॉरंटी आणि रिअल-टाइम रिमोट डायग्नोस्टिक्सची हमी देते, ज्यामुळे कमीत कमी डाउनटाइम आणि शाश्वत उत्पादन कार्यक्षमता सुनिश्चित होते.
