३ इंच उच्च शुद्धता (अनडोप्ड) सिलिकॉन कार्बाइड वेफर्स सेमी-इन्सुलेटिंग सिक सबस्ट्रेट्स (HPSl)
गुणधर्म
१. भौतिक आणि संरचनात्मक गुणधर्म
● साहित्याचा प्रकार: उच्च शुद्धता (अनडोप्ड) सिलिकॉन कार्बाइड (SiC)
● व्यास: ३ इंच (७६.२ मिमी)
● जाडी: ०.३३-०.५ मिमी, अर्जाच्या आवश्यकतांनुसार सानुकूल करण्यायोग्य.
● क्रिस्टल स्ट्रक्चर: षटकोनी जाळीसह 4H-SiC पॉलीटाइप, उच्च इलेक्ट्रॉन गतिशीलता आणि थर्मल स्थिरतेसाठी ओळखले जाते.
● अभिमुखता:
o मानक: [0001] (सी-प्लेन), विविध प्रकारच्या अनुप्रयोगांसाठी योग्य.
पर्यायी: उपकरणाच्या थरांच्या एपिटॅक्सियल वाढीसाठी ऑफ-अक्ष (४° किंवा ८° झुकाव).
● फ्लॅटनेस: एकूण जाडी फरक (TTV) ● पृष्ठभागाची गुणवत्ता:
o कमी-दोष घनतेपर्यंत पॉलिश केलेले (<१०/सेमी² मायक्रोपाइप घनता). २. विद्युत गुणधर्म ●प्रतिरोधकता: >१०९^९९ Ω·सेमी, हेतुपुरस्सर डोपेंट्स काढून टाकून राखले जाते.
● डायलेक्ट्रिक सामर्थ्य: कमीत कमी डायलेक्ट्रिक नुकसानासह उच्च व्होल्टेज सहनशक्ती, उच्च-शक्ती अनुप्रयोगांसाठी आदर्श.
●औष्णिक चालकता: ३.५-४.९ W/cm·K, उच्च-कार्यक्षमता असलेल्या उपकरणांमध्ये प्रभावी उष्णता नष्ट होण्यास सक्षम करते.
३. औष्णिक आणि यांत्रिक गुणधर्म
● विस्तृत बँडगॅप: 3.26 eV, उच्च व्होल्टेज, उच्च तापमान आणि उच्च रेडिएशन परिस्थितीत ऑपरेशनला समर्थन देते.
● कडकपणा: मोह्स स्केल ९, प्रक्रियेदरम्यान यांत्रिक पोशाखांविरुद्ध मजबूती सुनिश्चित करते.
● थर्मल एक्सपेंशन कोएफिशिएंट: ४.२×१०−६/K४.२ \times १०^{-६}/\text{K}४.२×१०−६/K, तापमानातील फरकांखाली मितीय स्थिरता सुनिश्चित करते.
पॅरामीटर | उत्पादन श्रेणी | संशोधन श्रेणी | डमी ग्रेड | युनिट |
ग्रेड | उत्पादन श्रेणी | संशोधन श्रेणी | डमी ग्रेड | |
व्यास | ७६.२ ± ०.५ | ७६.२ ± ०.५ | ७६.२ ± ०.५ | mm |
जाडी | ५०० ± २५ | ५०० ± २५ | ५०० ± २५ | मायक्रॉन |
वेफर ओरिएंटेशन | अक्षावर: <0001> ± 0.5° | अक्षावर: <0001> ± २.०° | अक्षावर: <0001> ± २.०° | पदवी |
मायक्रोपाइप घनता (MPD) | ≤ १ | ≤ ५ | ≤ १० | सेमी−२^-२−२ |
विद्युत प्रतिरोधकता | ≥ १E१० | ≥ १E५ | ≥ १E५ | Ω·सेमी |
डोपंट | अनडोप केलेले | अनडोप केलेले | अनडोप केलेले | |
प्राथमिक सपाट दिशानिर्देश | {१-१००} ± ५.०° | {१-१००} ± ५.०° | {१-१००} ± ५.०° | पदवी |
प्राथमिक फ्लॅट लांबी | ३२.५ ± ३.० | ३२.५ ± ३.० | ३२.५ ± ३.० | mm |
दुय्यम फ्लॅट लांबी | १८.० ± २.० | १८.० ± २.० | १८.० ± २.० | mm |
दुय्यम फ्लॅट ओरिएंटेशन | प्राथमिक फ्लॅटपासून ९०° CW ± ५.०° | प्राथमिक फ्लॅटपासून ९०° CW ± ५.०° | प्राथमिक फ्लॅटपासून ९०° CW ± ५.०° | पदवी |
कडा वगळणे | 3 | 3 | 3 | mm |
एलटीव्ही/टीटीव्ही/धनुष्य/वार्प | ३ / १० / ±३० / ४० | ३ / १० / ±३० / ४० | ५ / १५ / ±४० / ४५ | मायक्रॉन |
पृष्ठभागाचा खडबडीतपणा | सी-फेस: सीएमपी, सी-फेस: पॉलिश केलेला | सी-फेस: सीएमपी, सी-फेस: पॉलिश केलेला | सी-फेस: सीएमपी, सी-फेस: पॉलिश केलेला | |
भेगा (उच्च-तीव्रतेचा प्रकाश) | काहीही नाही | काहीही नाही | काहीही नाही | |
हेक्स प्लेट्स (उच्च-तीव्रतेचा प्रकाश) | काहीही नाही | काहीही नाही | संचयी क्षेत्र १०% | % |
पॉलीटाइप क्षेत्रे (उच्च-तीव्रतेचा प्रकाश) | संचयी क्षेत्र ५% | संचयी क्षेत्र २०% | संचयी क्षेत्र ३०% | % |
ओरखडे (उच्च-तीव्रतेचा प्रकाश) | ≤ ५ ओरखडे, एकत्रित लांबी ≤ १५० | ≤ १० ओरखडे, एकत्रित लांबी ≤ २०० | ≤ १० ओरखडे, एकत्रित लांबी ≤ २०० | mm |
एज चिपिंग | काहीही नाही ≥ ०.५ मिमी रुंदी/खोली | २ परवानगी आहे ≤ १ मिमी रुंदी/खोली | ५ परवानगी आहे ≤ ५ मिमी रुंदी/खोली | mm |
पृष्ठभाग दूषित होणे | काहीही नाही | काहीही नाही | काहीही नाही |
अर्ज
१. पॉवर इलेक्ट्रॉनिक्स
HPSI SiC सब्सट्रेट्सची विस्तृत बँडगॅप आणि उच्च थर्मल चालकता त्यांना अत्यंत परिस्थितीत चालणाऱ्या पॉवर उपकरणांसाठी आदर्श बनवते, जसे की:
●उच्च-व्होल्टेज उपकरणे: कार्यक्षम पॉवर रूपांतरणासाठी MOSFETs, IGBTs आणि Schottky बॅरियर डायोड्स (SBDs) यांचा समावेश आहे.
● नूतनीकरणीय ऊर्जा प्रणाली: जसे की सौर इन्व्हर्टर आणि पवन टर्बाइन नियंत्रक.
● इलेक्ट्रिक वाहने (EVs): कार्यक्षमता सुधारण्यासाठी आणि आकार कमी करण्यासाठी इन्व्हर्टर, चार्जर आणि पॉवरट्रेन सिस्टममध्ये वापरली जातात.
२. आरएफ आणि मायक्रोवेव्ह अनुप्रयोग
एचपीएसआय वेफर्सची उच्च प्रतिरोधकता आणि कमी डायलेक्ट्रिक तोटे रेडिओ-फ्रिक्वेन्सी (आरएफ) आणि मायक्रोवेव्ह सिस्टमसाठी आवश्यक आहेत, ज्यात समाविष्ट आहे:
● दूरसंचार पायाभूत सुविधा: 5G नेटवर्क आणि उपग्रह संप्रेषणांसाठी बेस स्टेशन.
●एरोस्पेस आणि संरक्षण: रडार सिस्टम, फेज्ड-अॅरे अँटेना आणि एव्हिओनिक्स घटक.
३. ऑप्टोइलेक्ट्रॉनिक्स
4H-SiC ची पारदर्शकता आणि रुंद बँडगॅप ऑप्टोइलेक्ट्रॉनिक उपकरणांमध्ये त्याचा वापर करण्यास सक्षम करते, जसे की:
● यूव्ही फोटोडिटेक्टर: पर्यावरणीय देखरेख आणि वैद्यकीय निदानासाठी.
●उच्च-शक्तीचे एलईडी: सॉलिड-स्टेट लाइटिंग सिस्टमला समर्थन देणारे.
● लेसर डायोड्स: औद्योगिक आणि वैद्यकीय वापरासाठी.
४. संशोधन आणि विकास
प्रगत साहित्य गुणधर्म आणि उपकरण निर्मितीचा शोध घेण्यासाठी शैक्षणिक आणि औद्योगिक संशोधन आणि विकास प्रयोगशाळांमध्ये HPSI SiC सब्सट्रेट्सचा मोठ्या प्रमाणावर वापर केला जातो, ज्यामध्ये हे समाविष्ट आहे:
● एपिटॅक्सियल लेयर ग्रोथ: दोष कमी करणे आणि लेयर ऑप्टिमायझेशनवरील अभ्यास.
●वाहक गतिशीलता अभ्यास: उच्च-शुद्धता असलेल्या पदार्थांमध्ये इलेक्ट्रॉन आणि छिद्र वाहतुकीची तपासणी.
● प्रोटोटाइपिंग: नवीन उपकरणे आणि सर्किट्सचा प्रारंभिक विकास.
फायदे
उत्कृष्ट दर्जा:
उच्च शुद्धता आणि कमी दोष घनता प्रगत अनुप्रयोगांसाठी एक विश्वासार्ह व्यासपीठ प्रदान करते.
औष्णिक स्थिरता:
उत्कृष्ट उष्णता नष्ट होण्याच्या गुणधर्मांमुळे उपकरणे उच्च शक्ती आणि तापमान परिस्थितीत कार्यक्षमतेने कार्य करू शकतात.
विस्तृत सुसंगतता:
उपलब्ध अभिमुखता आणि कस्टम जाडीचे पर्याय विविध उपकरण आवश्यकतांसाठी अनुकूलता सुनिश्चित करतात.
टिकाऊपणा:
अपवादात्मक कडकपणा आणि संरचनात्मक स्थिरता प्रक्रिया आणि ऑपरेशन दरम्यान झीज आणि विकृती कमी करते.
बहुमुखी प्रतिभा:
अक्षय ऊर्जेपासून ते एरोस्पेस आणि टेलिकम्युनिकेशनपर्यंत विविध उद्योगांसाठी योग्य.
निष्कर्ष
३-इंच हाय प्युरिटी सेमी-इन्सुलेटिंग सिलिकॉन कार्बाइड वेफर उच्च-शक्ती, उच्च-फ्रिक्वेन्सी आणि ऑप्टोइलेक्ट्रॉनिक उपकरणांसाठी सब्सट्रेट तंत्रज्ञानाच्या शिखराचे प्रतिनिधित्व करते. उत्कृष्ट थर्मल, इलेक्ट्रिकल आणि यांत्रिक गुणधर्मांचे त्याचे संयोजन आव्हानात्मक वातावरणात विश्वसनीय कामगिरी सुनिश्चित करते. पॉवर इलेक्ट्रॉनिक्स आणि आरएफ सिस्टमपासून ते ऑप्टोइलेक्ट्रॉनिक्स आणि प्रगत संशोधन आणि विकासापर्यंत, हे एचपीएसआय सब्सट्रेट्स उद्याच्या नवकल्पनांसाठी पाया प्रदान करतात.
अधिक माहितीसाठी किंवा ऑर्डर देण्यासाठी, कृपया आमच्याशी संपर्क साधा. आमची तांत्रिक टीम तुमच्या गरजांनुसार मार्गदर्शन आणि कस्टमायझेशन पर्याय प्रदान करण्यासाठी उपलब्ध आहे.
तपशीलवार आकृती



